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產(chǎn)品型號(hào)：LJ-FT50UV廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家更新時(shí)間：2026-07-07訪(fǎng) 問(wèn) 量：304產(chǎn)品分類(lèi)CLASSIFICATION
詳細(xì)介紹
| 品牌 | 藍(lán)景 | 類(lèi)型 | 薄膜 |
|---|---|---|---|
| 測(cè)量范圍 | 約20nm~50μm（折射率1.5時(shí)） | 電源電壓 | 220V±20V50HzAC/V |
| 產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) |
高精度不代表操作復(fù)雜。設(shè)備采用人性化交互界面，簡(jiǎn)化檢測(cè)流程，新手也能快速上手；支持?jǐn)?shù)據(jù)自動(dòng)存儲(chǔ)、導(dǎo)出、生成報(bào)表，滿(mǎn)足實(shí)驗(yàn)室管理與制程追溯需求。從實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)研發(fā)到產(chǎn)線(xiàn)批量檢測(cè)，從超薄納米膜到常規(guī)功能涂層，藍(lán)景反射膜厚儀以極-致精準(zhǔn)、穩(wěn)定耐用的表現(xiàn)，為薄膜材料研發(fā)、工藝優(yōu)化、質(zhì)量管控提供全周期支撐，助力中國(guó)高-端制造向更高精度邁進(jìn)。
一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介
反射式膜厚測(cè)量?jī)x是一款精準(zhǔn)又好用的薄膜厚度測(cè)量設(shè)備。它能測(cè)低至20納米的超薄薄膜，測(cè)量誤差小于1納米，最-快每秒可測(cè)100次，重復(fù)測(cè)量精度高達(dá)0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強(qiáng)，在振動(dòng)或復(fù)雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。
二、應(yīng)用領(lǐng)域
反射式膜厚測(cè)量?jī)x廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體與微電子制造、顯示面板、光學(xué)器件制造、生物醫(yī)學(xué)、汽車(chē)及新材料與新能源研發(fā)等領(lǐng)域，能滿(mǎn)足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學(xué)元件鍍膜、醫(yī)-用植入物涂層、汽車(chē)玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測(cè)需求，助力各行業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量與研發(fā)效率。
三、測(cè)試原理
反射膜厚儀基于白光干涉原理工作，光源發(fā)出的寬帶光入射至待測(cè)薄膜表面后，經(jīng)薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會(huì)因光程差產(chǎn)生干涉，干涉信號(hào)中包含薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)等關(guān)鍵信息，設(shè)備通過(guò)探頭采集干涉后的反射光譜，對(duì)特定波段范圍內(nèi)的光譜進(jìn)行模型擬合后，即可反演解析出薄膜的厚度、光學(xué)常數(shù)及粗糙度等參數(shù)，整個(gè)系統(tǒng)由高強(qiáng)度組合光源提供寬光譜入射光，經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)傳輸至樣品，反射光返回后由高速光譜模塊采集信號(hào)，最終通過(guò)上位機(jī)軟件完成數(shù)據(jù)處理與結(jié)果輸出。
四、產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 精準(zhǔn)測(cè)量：支持20nm超薄膜厚檢測(cè)，準(zhǔn)確度±1nm、重復(fù)精度0.05nm，滿(mǎn)足精密檢測(cè)需求；
2. 高速采樣：最-高采樣速度100Hz，適配產(chǎn)線(xiàn)快速檢測(cè)，提升測(cè)量效率；
3. 寬光譜覆蓋：采用氘鹵組合光源，光譜覆蓋紫外至近紅外，可解析單層/多層膜厚；
4. 強(qiáng)抗干擾性：高靈敏度元器件搭配抗干擾光學(xué)系統(tǒng)+多參數(shù)反演算法，復(fù)雜環(huán)境下測(cè)量穩(wěn)定；
5. 靈活易適配：支持自定義膜結(jié)構(gòu)測(cè)量，設(shè)備小巧易安裝，配套軟件及二次開(kāi)發(fā)包，適配實(shí)驗(yàn)室/產(chǎn)線(xiàn)多場(chǎng)景。
五、技術(shù)參數(shù)
| 型號(hào) | LJ-FT50UV | LJ-FT50NIR |
| 建議工作距離 | 非聚焦光束，安裝距離5至10mm | 安裝側(cè)面出光附加鏡時(shí)：34.5mm±2mm； 軸向出光時(shí)：55mm±2mm； |
| 測(cè)量角度 | ±10° | ±5° |
| 光斑類(lèi)型 | 彌散光斑；在10mm安裝距離時(shí)，光斑直徑約為4mm； | 聚焦光斑；約200μm |
| 探頭外徑*長(zhǎng)度 | Φ6.35*3200mm3 | Φ20*73mm |
| 探頭重量 | 190g | 108g（探頭）、49g（附加鏡） |
| 光源類(lèi)型 | 氘鹵光源 | 鹵素光源 |
| 波長(zhǎng)范圍 | 190-1100nm | 400-1100nm；1000-1700nm |
| 測(cè)厚范圍 | 約20nm~50μm（折射率1.5時(shí)） | 約50nm~50μm（折射率1.5時(shí)） |
| 適配探頭 | UV-VIS | VIS-NIR軸向； VIS-NIR徑向；（標(biāo)配其一） |
| 可連探頭數(shù)量 | 1 | |
| 探頭防護(hù)等級(jí) | IP40 | |
| 重復(fù)精度 | 0.05nm | |
| 準(zhǔn)確度 | <±1nm或±0.3%（取較大值） | |
| 采樣頻率 | Max.100Hz（視求解參數(shù)復(fù)雜度而定） | |
| 測(cè)控軟件 | 專(zhuān)用上位機(jī)軟件 | |
| 電源電壓 | 220V±20V50HzAC/ | |
| 最-大功率 | 50W | |
| 工作溫度 | -10至+40℃ | |
| 相對(duì)濕度 | 20%至85%RH（無(wú)冷凝） | |
| 控制器重量 | 約5000g | |
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